- Sections
- H - électricité
- H01L - Dispositifs à semi-conducteurs non couverts par la classe
- H01L 21/027 - Fabrication de masques sur des corps semi-conducteurs pour traitement photolithographique ultérieur, non prévue dans le groupe ou
Détention brevets de la classe H01L 21/027
Brevets de cette classe: 10263
Historique des publications depuis 10 ans
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2015 | 2016 | 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 | 2024 |
Propriétaires principaux
Proprétaire |
Total
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Cette classe
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Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 36809 |
868 |
Tokyo Electron Limited | 11599 |
725 |
Nikon Corporation | 7162 |
636 |
FUJIFILM Corporation | 27102 |
567 |
JSR Corporation | 2476 |
305 |
Applied Materials, Inc. | 16587 |
261 |
Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | 1481 |
232 |
Nissan Chemical Industries, Ltd. | 1822 |
230 |
Samsung Electronics Co., Ltd. | 131630 |
210 |
Screen Holdings Co., Ltd. | 2431 |
185 |
Nissan Chemical Corporation | 1725 |
180 |
Intel Corporation | 45621 |
160 |
Canon Kabushiki Kaisha | 6884 |
156 |
International Business Machines Corporation | 60644 |
153 |
Kioxia Corporation | 9847 |
130 |
Lam Research Corporation | 4775 |
126 |
Hoya Corporation | 2822 |
113 |
Boe Technology Group Co., Ltd. | 35384 |
111 |
Canon Inc. | 36841 |
104 |
Asahi Glass Company, Limited | 2985 |
104 |
Autres propriétaires | 4707 |